Enthüllung der Geheimnisse der Resistenzentwicklung mit einem bahnbrechenden Ansatz. Dieses Papier stellt ein neuartiges Konzept vor: Jeder Entwicklungspfad folgt der Trajektorie des geringsten Widerstands gegen das Eindringen des Entwicklers. Diese innovative Idee besagt, dass die Entwicklung des endgültigen Linienprofils minimale Auflösungszeit erfordert. Die Autoren erreichen dies durch eine Variationsberechnung des Pfadintegrals entlang jeder lokalen Entwicklungstrajektorie. Diese Berechnung bestimmt auf einzigartige Weise das Auflösungsprofil als Lösung einer nichtlinearen partiellen Differentialgleichung (PDE). Die Konzentration der photoaktiven Verbindung (PAC) wird aus den Standard-Dill-Gleichungen für die Expositionsbleiche abgeleitet, wobei sowohl monotone als auch stehende Wellen berücksichtigt werden. Die Implementierung und das Testen dieser Prozedur zeigen eine bemerkenswerte Genauigkeit, wodurch Pfadkreuzungen beseitigt werden, die herkömmlichen String-Algorithmen innewohnen. Diese Methode vermeidet auch die willkürliche Eliminierung ungünstiger Punkte über alle Entwicklungszeiten hinweg und bietet einen bedeutenden Fortschritt in der Modellierung und Vorhersage der Resistenzentwicklung.