Chemical Vapor Deposition

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Journaleigenschaften
  • Sprache
    English
  • Anzahl der Artikel
    1,372
  • Abkürzung
    Chem Vap Deposition
  • ISSN
    0948-1907
  • e-ISSN
    1521-3862
  • Hauptverlag
    Wiley-Blackwell
  • Herausgeber
    Wiley
  • Indian UGC
  • Indian UGC Name
  • DOAJ (letzte)
Beschreibung
Chemical Vapor Deposition erforscht die Spitze der Dünnschichttechnologie und konzentriert sich auf die Wissenschaft und Anwendung von Gasphasenabscheidungsprozessen. Das Journal präsentiert Originalforschung, Übersichten und Perspektiven zur Synthese, Charakterisierung und Anwendung von Dünnschichten und Beschichtungen, die durch CVD hergestellt werden. Zu den wichtigsten Themen gehören Vorläufer, Reaktionsmechanismen, Prozessoptimierung und fortschrittliche Materialien wie Halbleiter, Keramiken und Nanostrukturen. Das Journal beleuchtet die neuesten Fortschritte in der CVD für Anwendungen, die von Mikroelektronik und Optik bis hin zu Energiespeicherung und Katalyse reichen. Es ist in wichtigen Datenbanken wie CAS, Scopus und Web of Science indexiert. Forscher, Ingenieure und Wissenschaftler, die an den neuesten Entwicklungen in der Dünnschichttechnologie interessiert sind, werden dieses Journal unverzichtbar finden. Bleiben Sie an der Spitze der CVD-Forschung, tragen Sie Ihre Arbeit bei und gestalten Sie die Zukunft der Materialwissenschaften. Erkunden Sie die Einreichungsrichtlinien, um zu den Fortschritten bei CVD-Prozessen beizutragen.