The anomalous bandgap bowing in GaAsN

Artikeleigenschaften
  • Sprache
    English
  • DOI (url)
  • Veröffentlichungsdatum
    2002/07/15
  • Indian UGC (Zeitschrift)
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    20
  • Zitate
    101
  • U. Tisch Department of Electrical Engineering, Technion, 32000 Haifa, Israel
  • E. Finkman Department of Electrical Engineering, Technion, 32000 Haifa, Israel
  • J. Salzman Department of Electrical Engineering, Technion, 32000 Haifa, Israel
Abstrakt
Zitieren
Tisch, U., et al. “The Anomalous Bandgap Bowing in GaAsN”. Applied Physics Letters, vol. 81, no. 3, 2002, pp. 463-5, https://doi.org/10.1063/1.1494469.
Tisch, U., Finkman, E., & Salzman, J. (2002). The anomalous bandgap bowing in GaAsN. Applied Physics Letters, 81(3), 463-465. https://doi.org/10.1063/1.1494469
Tisch U, Finkman E, Salzman J. The anomalous bandgap bowing in GaAsN. Applied Physics Letters. 2002;81(3):463-5.
Journalkategorien
Science
Chemistry
Physical and theoretical chemistry
Science
Physics
Technology
Chemical technology
Technology
Electrical engineering
Electronics
Nuclear engineering
Materials of engineering and construction
Mechanics of materials
Beschreibung

Was verursacht das ungewöhnliche Verhalten von Bandlücken in bestimmten Halbleitermaterialien? Diese Forschung untersucht die Zusammensetzungsabhängigkeit der fundamentalen Bandlücke dünner, pseudomorpher GaAs1−xNx-Schichten auf GaAs-Substraten. Die Studie kombiniert optische Transmissionsmessungen mit hochauflösender Röntgendiffraktion, um GaAsN-Schichten mit unterschiedlichem Stickstoffgehalt (0⩽x⩽5%) zu analysieren. Die Studie präsentiert einen sehr großen Satz konsistenter experimenteller Daten. Es wird eine empirische doppelte exponentielle Zusammensetzungsabhängigkeit des Biegungsparameters erhalten. Dieser Ausdruck beschreibt genau die gemessenen Bandlücken und ermöglicht Schätzungen für höhere N-Einlagerungen. Der Biegungsparameter erreicht 40 eV für sehr geringe N-Einlagerungen (x≈0,1%) und nimmt mit zunehmendem N-Molenbruch stark ab. Die Ergebnisse bieten Einblicke in die elektronischen Eigenschaften von GaAsN, einer Legierung mit potenziellen Anwendungen in optoelektronischen Bauelementen. Das Verständnis dieses anomalen Biegungsverhaltens ist entscheidend für die Optimierung der Materialeigenschaften und die Entwicklung von Hochleistungs-Halbleiterbauelementen.

Diese in den Applied Physics Letters veröffentlichte Forschung untersucht die grundlegenden Eigenschaften eines Halbleitermaterials und steht im Einklang mit dem Schwerpunkt des Journals auf neuartigen Materialien und Bauelementen. Die Verwendung experimenteller Techniken zur Charakterisierung der Bandlücke von GaAsN in der Studie steht im Einklang mit dem Fokus des Journals auf angewandte Physik und ihre Relevanz für technologische Anwendungen.

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Die erste Studie, die diesen Artikel zitiert hat, trug den Titel Band parameters for nitrogen-containing semiconductors und wurde in 2003. veröffentlicht. Die aktuellste Zitierung stammt aus einer 2023 Studie mit dem Titel Band parameters for nitrogen-containing semiconductors Seinen Höhepunkt an Zitierungen erreichte dieser Artikel in 2004 mit 14 Zitierungen.Es wurde in 52 verschiedenen Zeitschriften zitiert., 7% davon sind Open Access. Unter den verwandten Fachzeitschriften wurde diese Forschung am häufigsten von Journal of Applied Physics zitiert, mit 12 Zitierungen. Die folgende Grafik veranschaulicht die jährlichen Zitationstrends für diesen Artikel.
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